a. 成膜速度が大きく、厚い皮膜が形成できる。
　　　　b. 皮膜形成に利用できる材料の自由度が大きい。
　　　　c. 被溶射材料の種類、形状、寸法に対する自由度が大きい。
　　　　d. 皮膜形成時の素材変形、材質変化が小さい。
　　　　e. 複合皮膜を形成が容易である。
　　　　f. 非平衡状態の組織ができる。
　　 　 g. 多孔質である。

　　　　(弊社にて施工可能のみ)

　　　　a. ガス溶射
　　　　　　 　　　　　フレーム溶射・・・・・・・酸素、アセチレン混合ガス等のガス炎を
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　溶射の熱源にし、圧縮空気で材に衝突、
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　付着させ、皮膜形成する方法。材料によ
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　り溶線式−、溶棒式−、粉末式−等あり
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　ます。

　　　　　　　　　　　高速フレーム溶射・・・高圧酸素と炭化水素系燃料ガス等の燃焼
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　炎を利用し溶射飛行粒子（HVOF法)
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　の高速化により強い衝突力を実現し、機密
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　で密着性の高い溶射皮膜を得る為に開発
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　された方法。

　　　　b. 電気式溶射
　　　　　　　　　　　アーク溶射・・・・・・・・・２本の金属ワイヤー間でアーク放電を発生
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　させ、このエネルギーでワイヤーを溶融し
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　圧縮空気で素材に衝突させ、皮膜形成さ
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　せる方法。

　　　　　　　　　　　プラズマ溶射・・・・・・・電極間に不活性ガスを流し放電し高温・高速の
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　プラズマジェットを溶射ガン中に形成させ、この
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　中に粉末状の溶射材料を入れ加熱、加速して
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　基材に吹付ける方法。